技术原理：
本光纤光栅刻写平台采用的技术主要包括：紫外准分子激光器、载氢增敏技术、相位掩模板干涉成栅技术、幅度掩模板变迹切趾技术以及拉力波长调节技术。
其刻写光路为准分子激光器输出的激光经过可调光阑、一对柱面镜和小孔光阑组成的空间滤波及整形模块后形成一个长方形均匀光斑。该光斑再经过幅度掩模板后形成与幅度模板形状一致的光斑，并经过柱透镜聚焦后经过相位掩模板，相位掩模板的±1级衍射形成干涉条纹。当该干涉条纹辐照具有光敏性的光纤一段时间后，就可以在光纤中形成不同强度的光纤光栅，最终光纤光栅的类型和参数将决定于光纤和干涉条纹的相对位置关系、相位掩模板的周期、辐照时间等因素。
型号：JKWP-201A
特点：全手动操作，适合科研
平台组成一览：
系统名称 | 功能描述和说明 |
平台基座 | 能避免环境因素对平台稳定程度的影响 |
载氢光学增敏系统 | 提供安全的载氢增敏解决方案 |
光源系统 | 作为光栅刻写的UV光源，提供稳定的激光输出 |
紫外光路系统 | 刻写平台的主要功能模块 |
光纤夹持模块 | 提供光纤大压力无损光纤夹持，提供光纤手动调节的配套解决方案 |
光栅测试系统 | 分别提供能对1um;1.5um;2um波段的光纤光栅进行测试的系统 |
退火消氢系统 | 提供退火消氢解决方案 |
光栅涂覆系统 | Vytran公司PTR-200-MRC系列光纤涂覆机 |
封装固化系统 | 提供高效率金属封装完成方法 |
刻写管理系统 | 聚科刻写管理系统 |
其他可选配件 | Vytran公司LDC-400光纤切割机；日本藤仓中断光纤剥除仪；日本藤仓CT30光纤切割刀；日本藤仓FSM-80S光纤熔接机；品牌可选除湿机；品牌可选空调；品牌可选冰箱； |
培训指导服务 | 聚科平台使用培训指导服务 |
注：以上规格为标准配置，可根据客户具体需求，提供定制产品。
具体使用简介：
本平台选用国产精密隔振光学平台作为基础，完美的避免了环境因素对平台稳定程度的影响。本平台的光路系统全部可以依照您的要求进行定制，并全部可以自主调整，为您的科研之路带来最大限度的自由选择。
本平台主要应用于科研，特别选择了聚科光纤大压力无损光纤夹持及光纤手动调节的配套解决方案。
而在其他配件方面，我们为您选配了由国外激光器厂家提供的准分子激光器；美国vytran公司提供的PTR-200-MRC系列光纤涂覆机和LDC-400光纤切割机；由日本藤仓公司提供的中断光纤剥除仪、CT30光纤切割刀、FSM-80S光纤熔接机；由国内厂商提供的高温烘箱；将组成光纤光栅的各种处理流程。
对于每个平台，我们都将提供一次1/人次培训指导服务，培训以实际学会光纤光栅刻写平台的使用为准。
